本文標題:硅氧烷涂層和在紙中涂覆樣品檢測顯微鏡
信息分類:行業(yè)動態(tài) 新聞來源：未知 發(fā)布時間：2017-10-3 23:31:36
硅氧烷涂層和在紙中涂覆樣品檢測顯微鏡
為了確保達到最佳激發(fā)，如果用途不同寸，采用不同的放射性
同位素很有必要。對硅氧烷涂層和在紙中的二氧化鈦，采用鐵—55
(Fe—55)源-因為鐵—55的X射線比較柔和(低能量)，不會在試樣中
穿越很遠。而對于在膜上的銀，則采用能量更高的镅—241源。
將試樣放置在距離輻射源僅幾毫米處，以達到比較高的靈敏度
。試樣距激發(fā)源越近，對試樣的輻射越有效。低能X射線(如硅元素
的X射線)很容易被環(huán)境吸收，應當進行氦凈化。必要時，選擇最佳
輻射和氦凈化，大多數(shù)試樣的計量時間一般在2nfin之內(nèi)。
可以將不同元素和材料的校準曲線直接存儲在儀器中以備調(diào)用
。校準曲線是通過測試一套已知試樣或同一材料的標準試樣建立起
來的，因為XFR是一項比較技術(shù)，所以，后續(xù)的分析工作與所使用
的校準曲線的精確度有關(guān)：
整體累積強度實際上是被分析元素和背景材料信號的合并，背
景強度可以隨著材料的厚度或基礎(chǔ)質(zhì)量變化。可以通過測試未涂覆
或空白試樣測定其中的差別，測定結(jié)果將自動合并到校準曲線。
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